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原作者：郭禾中国人民大学法学院教授
集成电路是一种工业产品，在公众心目中它与著作权可谓“风马牛不相及”。但是，在步人信息社会的当今时代，它们确确实实地联系在一起了。这种联系正是知识产权法的一个最新发展。
一、独创性原则进入集成电路保护领域传统知识产权法可划分为著作权法与工业产权 法两大块，也可划分为著作权法、专利法和商标法三部分．它们分别根据所保护对象的不同确立了适合于自身的基本法律原则．著作权法要求被保护的作品具备独创性。具体地讲，著作权法对其所保护的作品并不要求创造高度，不论作品的质量高低、也不论在此之前是否有相同作品问世，只要作品是靠作者独立的智力劳动完成，不是抄袭他人之作，即可受到著作权法的保护。正是在这样的原则下文学、艺术和科学作品的创作才得以丰富多彩．相比之下，专利法对其所保护的技术提出了较为严格的新颖性、创造性和实用性等要求。其中创造性则是要求受保护的技术具有一定的创造高度，即不能是普通技术人员从已有技术中可推知的显而易见的结果．由此可知，不具备一定的创造高度的技术，是得不到专利法保护的。
知识产权法的这种分工是与一定的生产力发展水平相适应的．随着技术的发展，尤其进入了信息时代，传统的知识产权法律体系面对某些新兴技术就显得有些不适应．人们通常以为，集成电路作为一种工业产品理所当然地应当受到专利法的保护．但事实上，专利法能够提供给集成电路的保护确实十分有限。由于集成电路本身的特性，使得大多数集成电路产品，有时甚至是最先进的集成电路也不能满足专利法中的创造性要求。
然而集成电路作为信息社会的基石，在当今世界上发挥着与其他产品无与伦比的作用．可以毫不夸张地说，在一切技术领域，乃至日常生活的每一个角落，无不有集成电路的身影．因此集成电路技术成了各国技术竞争的焦点．不少不法厂商采用非法手段窃取他人技术，仿制集成电路大发横财．为维护正常的竞争秩序，集成电路保护成了刻不容缓的问题．由于集成电路产品与专利体系不协调，这迫使人们另辟蹊径。
在制造集成电路产品的过程中，集成电路布图设计起着至关重要的作用．所谓布图设计(1ayout design)是指集成电路芯片中各种元器件的三维配置，美国人称之为掩模作品(maskworks)，欧洲人称其为形貌结构(tohography)，日本人将它叫作线路布图(circuitlayout)．布图设计可以以掩模图形的方式存在于掩模板(制造集成电路所必须的一种中介物．制造一种集成电路需要载有这种集成电路全套布图设计的掩模板，多时可达十多块)上，也可以以编码的方式存在于计算机中或者磁盘、磁带上。对于制造完毕的集成电路芯片，布图设计是以图形的方式存在于芯片表面和表面下不同深度处．正是这一系列图形的组合构成了相互联系的各种元器件，从而可以实现其电子功能．一个有经验的技术人员只要掌握了全套布图设计，便可十分容易地制造出这种集成电路．现实中一些不法厂商和个人就是靠窃取或倒卖他人布图设计牟取暴利的．所以要保护集成电路产品，必须进一步保护布图设计。而布图设计与集成电路产品间又存在着一一对应关系，即一种布图设计只能生产一种集成电路，故保护了布图设计也就间接地保护了集成电路产品。
1984年，美国在世界率先颁布了保护集成电路法律——《半导体芯片保护法》．该法保护的直接对象不是集成电路产品，而是布图设计(该法中称掩模作品)．考虑到布图设计的某些特点，该法引入了著作权法中的独创性(origionality)原则。要求受保护的布图设计必须满足独创性条件；这便把著作权法的保护原则引进到技术领域．当然，布图设计毕竟带有技术性，为了保护先进技术，防止将一些司空见惯的技术垄断，仅有独创性要求是不够的．为此，该法又规定受保护的布图设计不能是普通的，平庸的或者为人所熟知的。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。这里，独创性与创造性在一定程度上结合到了一起．这是当今知识产权法的又一发展。
在美国之后，日本于1985年颁布了《半导体集成电路线路布局法》，欧共体于1986年发布了《关于半导体产品形貌结构法律保护的指令》，世界知识产权组织也于1989年通过了《关于集成电路知识产权保护条约》．到目前为止，已有近20个国家和地区颁布了这方面的法律．值得注意的是，无论是国际组织的条约、指令，还是各国的国内立法均采用了美国式的做法，即采用介于著作权法与专利法之间的一种混合型特别法来保护集成电路。
二、布图设计与著作权客体的比较
各国之所以接受美国的做法，把独创性原则作为保护布图设计的基础，是因为布图设计在许多方面确实与著作权客体有着诸多相似之处。首先，作为知识产权法所保护的对象，它们都具有无形性．布图设计是集成电路中各种元件的配置方案，其存在方式可有多种．如前所述，当其载体为掩模板或者当其被固化于集成电路芯片之中时，它表现为一系列图形的组合；当其存储于电子计算机或者相应的磁带、磁盘中时，其存在方式为一系列的数字编码．虽然布图设计在不同的载体上有着不同的存在方式，但就其本身而言，它与作品一样是无形的。
其次，布图设计的存在方式也与著作权客体的某些存在方式相同．上面讲到，布图设计可以编码方式存在．普通作品也可以相同的方式存在，尤其是当数字式视听设备普及后，一切音像作品都将以数字编码状态存在，普通的文字作品在输入电子计算机后，也是以数字编码的形式存储于磁带，磁盘或者计算机的存储器中．另一方面，，布图设计要在集成电路芯片中发挥其特定的电子功能，必须以特定的图形方式存在．而这种在三维空间以一定方式组合的一系列图形与著作权法所保护的传统作品的形式相比可说是非常相似的．
第三。也是最为重要的，布图设计与作品都具有可复制性．从布图设计的存在方式可推知，采用复制普通作品的方式可以-十分方便地复制布图设计．对于掩模图形可以采用照像方式翻拍；对于数字编码，也可采用通常的拷贝方法将其转入另一载体．即使是被固化到集成电路芯片上的布图设计，也还可以通过反向工程技术将其复制出来。所谓反向工程(reverseengineering)是指从集成电路成品人手，对芯片进行解剖，分析其功能、设计、工艺等技术特点，从而复制该集成电路布图设计的过程．实践中常用化学方法将芯片逐层剥蚀，再用显微摄影技术将芯片中每一层图形翻拍下来，测出各种图形的横向尺寸和纵向深度，即可复制出全套的布图设计。
由于布图设计具有以上这些与作品相近的特点，故而使得布图设计在保护方式上可以借鉴一些著作权法中的做法，这也是为什么各国都将独创性作为布图设计受保护的条件的原因。但是集成电路毕竟是一种工业产品，因此其布图设计与作品相比还存在着差异，主要表现在下面几个方面：
1．布图设计具有工业实用性．布图设计之所以有价值是因为它可以直接用于制造集成电路．换言之，其价值体现在这种工业应用之中．而普通作品在这一点上与布图设计完全不同．普通作品固然也有其用途，但其使用仅仅是使人获得一定的感观享受，如阅读欣赏等。
2．布图设计的人身属性非常弱．由于布图设计实际上是一种技术性方案，因此就设计本身而言没有任何人身的感情色彩．而普通作品则不然，它往往体现了作者对人生，社会的理解，表现了作者的思想观念和情感，是作者人格的体现．
3．布图设计的表现形式具有非任意性．针对集成电路某些技术参数要求，布图设计往往不得不采用某种特定图形和尺寸．为了提高击穿电压，必须将晶体管图形设计为圆形；为了改善高频特性，应尽可能缩小图形尺寸以减小分布参数的影响．除此以外，布图设计还受到其他技术规范以及材料性能、工艺水平等诸多因素的限制．相比之下，普通作品可以随作者思路在任何领域中驰骋．作者可以信笔挥洒而无需顾虑表现形式上的限制。
三、布图设计权与著作权的比较
布图设计权与著作权内容的相似与不同是由布图设计与作品在特性上的同异所决定的。
著作权包括人身权和财产权，就其人身权而言，一般包括署名权，发表权、修改权，保护作品完整权等．由于布图设计的人身性极弱，故人身权在布图设计权中所占比重也很小，最多只包含一个署名权而已。而其他人身权对布图设计权人来讲并无太大意义，故各国及国际公约均未规定；即使是署名问题，多数国家只是将其与布图设计标记一起作为选择性规范予以规定的。如美国法中规定可以将权利人姓名与权利标记M一同标在掩模或芯片产品上。欧共体指令中亦有类似规定，只是标记为T。
在财产权方面，布图设计权人所享有的最重要的权利是复制权，它与著作权中的复制权极为相似．世界知识产权组织的条约规定，未经布图设计权人许可，不得复制受保护的布图设计的全部或者其任何部分。美国法中还具体规定了复制包括光学、电子学或者其他任何方法的复制。这自然也包括了著作权法中所规定的各种复制形式．布图设计与作品之所以在复制权上发生竞合，究其根源还在于二者具有相同的可复制性．复制权是著作财产权中最重要的权能，对布图设计权而言更是如此。布图设计权中其他一切权利都是从复制权中衍生而来。世界知识产权组织条约规定，布图设计权人有权禁止或许可为商业目的进口、销售布图设计或含有布图设计的集成电路，这里的“进口’、“销售”行为都是以复制他人布图设计为前提的．至于著作权中的表演、播放等项权利，对布图设计则无从谈起，这也是由于布图设计与作品使用方式不同所致。
在著作权珐中有关于合理使用、法定许可，甚或强制许可等规定．同样，在有关集成电路保护法中也有类似的权利限制性规定．甚至于某些方面的限制比著作权法更为严格，如关于反向工程的规定便是一例．各国法律都承认在合理的限度内实施反向工程不视为侵权．所谓“合理”，包含两个方面：
第一，仅仅为教学、评价，研究布图设计中的概念。技术、或者布图设计中采用的电路，逻辑，组织结构而复制他人布图设计的不视为侵权．这种行为的目的必须是非商业性的，这与著作权法中的合理使用非常相似．第二，将分析、评价结果应用于为销售而制作的具有独创性的布图设计之中的行为也不视为侵权．这一点比著作权法中的合理使用走得更远，依照著作权法这种行为属于侵权行为。之所以要对布图设计权作出这种限制，首先是因为反向工程在集成电路发展中起着重要作用。世界各国的半导体厂商无不利用这种方法了解其他厂商的产品发展状况，以便提高自己产品的技术水平．如果简单适用著作权法的规定，对这一行为严格禁止，将会扼制集成电路技术的进步．其次是由于布图设计的表现形式具有非任意性。在一些特殊情况下，设计方法只有一种或几种，如果对这种唯一的或有限的表达形式的布图设计适用著作权法的规定，予以禁止，这本身就是造成一种事实上的思想垄断，这不仅违背著作权法的宗旨，对公众也是不公平的．所以各国都将此作为一种侵权的例外．除此之外各国法律还引人了专利法中权利用尽．善意侵权等限制性规定．
在权利产生方式上，各国均受美国的影响．尽管美国著作权法在1976年修改后已不再将登记作为著作权产生的前提，但在集成电路保护方面，仍沿用了原先的规定。只有履行了登记手续后才能享有布图设计专有权，并且布图设计标记将作为受法律保护的初步证据。
综上所述，虽然各国均采用专门立法保护集成电路，但从有关法律的具体规定来看，这实际上是一种以著作权法为基础，结合专利法有关规定的混合型法律。除集成电路以外，著作权理论在计算机软件保护领域中也发挥着重要作用。这种著作权与工业产权的融合，是技术发展和进步的必然。传统的知识产权法的分工正在被打破。我们相信，技术的革命将导致知识产权理论的更新。 出处:知识产权 |
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原作者：郭禾中国人民大学法学院教授
集成电路是一种工业产品，在公众心目中它与著作权可谓“风马牛不相及”。但是，在步人信息社会的当今时代，它们确确实实地联系在一起了。这种联系正是知识产权法的一个最新发展。
一、独创性原则进入集成电路保护领域传统知识产权法可划分为著作权法与工业产权 法两大块，也可划分为著作权法、专利法和商标法三部分．它们分别根据所保护对象的不同确立了适合于自身的基本法律原则．著作权法要求被保护的作品具备独创性。具体地讲，著作权法对其所保护的作品并不要求创造高度，不论作品的质量高低、也不论在此之前是否有相同作品问世，只要作品是靠作者独立的智力劳动完成，不是抄袭他人之作，即可受到著作权法的保护。正是在这样的原则下文学、艺术和科学作品的创作才得以丰富多彩．相比之下，专利法对其所保护的技术提出了较为严格的新颖性、创造性和实用性等要求。其中创造性则是要求受保护的技术具有一定的创造高度，即不能是普通技术人员从已有技术中可推知的显而易见的结果．由此可知，不具备一定的创造高度的技术，是得不到专利法保护的。
知识产权法的这种分工是与一定的生产力发展水平相适应的．随着技术的发展，尤其进入了信息时代，传统的知识产权法律体系面对某些新兴技术就显得有些不适应．人们通常以为，集成电路作为一种工业产品理所当然地应当受到专利法的保护．但事实上，专利法能够提供给集成电路的保护确实十分有限。由于集成电路本身的特性，使得大多数集成电路产品，有时甚至是最先进的集成电路也不能满足专利法中的创造性要求。
然而集成电路作为信息社会的基石，在当今世界上发挥着与其他产品无与伦比的作用．可以毫不夸张地说，在一切技术领域，乃至日常生活的每一个角落，无不有集成电路的身影．因此集成电路技术成了各国技术竞争的焦点．不少不法厂商采用非法手段窃取他人技术，仿制集成电路大发横财．为维护正常的竞争秩序，集成电路保护成了刻不容缓的问题．由于集成电路产品与专利体系不协调，这迫使人们另辟蹊径。
在制造集成电路产品的过程中，集成电路布图设计起着至关重要的作用．所谓布图设计(1ayout design)是指集成电路芯片中各种元器件的三维配置，美国人称之为掩模作品(maskworks)，欧洲人称其为形貌结构(tohography)，日本人将它叫作线路布图(circuitlayout)．布图设计可以以掩模图形的方式存在于掩模板(制造集成电路所必须的一种中介物．制造一种集成电路需要载有这种集成电路全套布图设计的掩模板，多时可达十多块)上，也可以以编码的方式存在于计算机中或者磁盘、磁带上。对于制造完毕的集成电路芯片，布图设计是以图形的方式存在于芯片表面和表面下不同深度处．正是这一系列图形的组合构成了相互联系的各种元器件，从而可以实现其电子功能．一个有经验的技术人员只要掌握了全套布图设计，便可十分容易地制造出这种集成电路．现实中一些不法厂商和个人就是靠窃取或倒卖他人布图设计牟取暴利的．所以要保护集成电路产品，必须进一步保护布图设计。而布图设计与集成电路产品间又存在着一一对应关系，即一种布图设计只能生产一种集成电路，故保护了布图设计也就间接地保护了集成电路产品。
1984年，美国在世界率先颁布了保护集成电路法律——《半导体芯片保护法》．该法保护的直接对象不是集成电路产品，而是布图设计(该法中称掩模作品)．考虑到布图设计的某些特点，该法引入了著作权法中的独创性(origionality)原则。要求受保护的布图设计必须满足独创性条件；这便把著作权法的保护原则引进到技术领域．当然，布图设计毕竟带有技术性，为了保护先进技术，防止将一些司空见惯的技术垄断，仅有独创性要求是不够的．为此，该法又规定受保护的布图设计不能是普通的，平庸的或者为人所熟知的。这实际上是对创造高度的要求，但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。这里，独创性与创造性在一定程度上结合到了一起．这是当今知识产权法的又一发展。
在美国之后，日本于1985年颁布了《半导体集成电路线路布局法》，欧共体于1986年发布了《关于半导体产品形貌结构法律保护的指令》，世界知识产权组织也于1989年通过了《关于集成电路知识产权保护条约》．到目前为止，已有近20个国家和地区颁布了这方面的法律．值得注意的是，无论是国际组织的条约、指令，还是各国的国内立法均采用了美国式的做法，即采用介于著作权法与专利法之间的一种混合型特别法来保护集成电路。
二、布图设计与著作权客体的比较
各国之所以接受美国的做法，把独创性原则作为保护布图设计的基础，是因为布图设计在许多方面确实与著作权客体有着诸多相似之处。首先，作为知识产权法所保护的对象，它们都具有无形性．布图设计是集成电路中各种元件的配置方案，其存在方式可有多种．如前所述，当其载体为掩模板或者当其被固化于集成电路芯片之中时，它表现为一系列图形的组合；当其存储于电子计算机或者相应的磁带、磁盘中时，其存在方式为一系列的数字编码．虽然布图设计在不同的载体上有着不同的存在方式，但就其本身而言，它与作品一样是无形的。
其次，布图设计的存在方式也与著作权客体的某些存在方式相同．上面讲到，布图设计可以编码方式存在．普通作品也可以相同的方式存在，尤其是当数字式视听设备普及后，一切音像作品都将以数字编码状态存在，普通的文字作品在输入电子计算机后，也是以数字编码的形式存储于磁带，磁盘或者计算机的存储器中．另一方面，，布图设计要在集成电路芯片中发挥其特定的电子功能，必须以特定的图形方式存在．而这种在三维空间以一定方式组合的一系列图形与著作权法所保护的传统作品的形式相比可说是非常相似的．
第三。也是最为重要的，布图设计与作品都具有可复制性．从布图设计的存在方式可推知，采用复制普通作品的方式可以-十分方便地复制布图设计．对于掩模图形可以采用照像方式翻拍；对于数字编码，也可采用通常的拷贝方法将其转入另一载体．即使是被固化到集成电路芯片上的布图设计，也还可以通过反向工程技术将其复制出来。所谓反向工程(reverseengineering)是指从集成电路成品人手，对芯片进行解剖，分析其功能、设计、工艺等技术特点，从而复制该集成电路布图设计的过程．实践中常用化学方法将芯片逐层剥蚀，再用显微摄影技术将芯片中每一层图形翻拍下来，测出各种图形的横向尺寸和纵向深度，即可复制出全套的布图设计。
由于布图设计具有以上这些与作品相近的特点，故而使得布图设计在保护方式上可以借鉴一些著作权法中的做法，这也是为什么各国都将独创性作为布图设计受保护的条件的原因。但是集成电路毕竟是一种工业产品，因此其布图设计与作品相比还存在着差异，主要表现在下面几个方面：
1．布图设计具有工业实用性．布图设计之所以有价值是因为它可以直接用于制造集成电路．换言之，其价值体现在这种工业应用之中．而普通作品在这一点上与布图设计完全不同．普通作品固然也有其用途，但其使用仅仅是使人获得一定的感观享受，如阅读欣赏等。
2．布图设计的人身属性非常弱．由于布图设计实际上是一种技术性方案，因此就设计本身而言没有任何人身的感情色彩．而普通作品则不然，它往往体现了作者对人生，社会的理解，表现了作者的思想观念和情感，是作者人格的体现．
3．布图设计的表现形式具有非任意性．针对集成电路某些技术参数要求，布图设计往往不得不采用某种特定图形和尺寸．为了提高击穿电压，必须将晶体管图形设计为圆形；为了改善高频特性，应尽可能缩小图形尺寸以减小分布参数的影响．除此以外，布图设计还受到其他技术规范以及材料性能、工艺水平等诸多因素的限制．相比之下，普通作品可以随作者思路在任何领域中驰骋．作者可以信笔挥洒而无需顾虑表现形式上的限制。
三、布图设计权与著作权的比较
布图设计权与著作权内容的相似与不同是由布图设计与作品在特性上的同异所决定的。
著作权包括人身权和财产权，就其人身权而言，一般包括署名权，发表权、修改权，保护作品完整权等．由于布图设计的人身性极弱，故人身权在布图设计权中所占比重也很小，最多只包含一个署名权而已。而其他人身权对布图设计权人来讲并无太大意义，故各国及国际公约均未规定；即使是署名问题，多数国家只是将其与布图设计标记一起作为选择性规范予以规定的。如美国法中规定可以将权利人姓名与权利标记M一同标在掩模或芯片产品上。欧共体指令中亦有类似规定，只是标记为T。
在财产权方面，布图设计权人所享有的最重要的权利是复制权，它与著作权中的复制权极为相似．世界知识产权组织的条约规定，未经布图设计权人许可，不得复制受保护的布图设计的全部或者其任何部分。美国法中还具体规定了复制包括光学、电子学或者其他任何方法的复制。这自然也包括了著作权法中所规定的各种复制形式．布图设计与作品之所以在复制权上发生竞合，究其根源还在于二者具有相同的可复制性．复制权是著作财产权中最重要的权能，对布图设计权而言更是如此。布图设计权中其他一切权利都是从复制权中衍生而来。世界知识产权组织条约规定，布图设计权人有权禁止或许可为商业目的进口、销售布图设计或含有布图设计的集成电路，这里的“进口’、“销售”行为都是以复制他人布图设计为前提的．至于著作权中的表演、播放等项权利，对布图设计则无从谈起，这也是由于布图设计与作品使用方式不同所致。
在著作权珐中有关于合理使用、法定许可，甚或强制许可等规定．同样，在有关集成电路保护法中也有类似的权利限制性规定．甚至于某些方面的限制比著作权法更为严格，如关于反向工程的规定便是一例．各国法律都承认在合理的限度内实施反向工程不视为侵权．所谓“合理”，包含两个方面：
第一，仅仅为教学、评价，研究布图设计中的概念。技术、或者布图设计中采用的电路，逻辑，组织结构而复制他人布图设计的不视为侵权．这种行为的目的必须是非商业性的，这与著作权法中的合理使用非常相似．第二，将分析、评价结果应用于为销售而制作的具有独创性的布图设计之中的行为也不视为侵权．这一点比著作权法中的合理使用走得更远，依照著作权法这种行为属于侵权行为。之所以要对布图设计权作出这种限制，首先是因为反向工程在集成电路发展中起着重要作用。世界各国的半导体厂商无不利用这种方法了解其他厂商的产品发展状况，以便提高自己产品的技术水平．如果简单适用著作权法的规定，对这一行为严格禁止，将会扼制集成电路技术的进步．其次是由于布图设计的表现形式具有非任意性。在一些特殊情况下，设计方法只有一种或几种，如果对这种唯一的或有限的表达形式的布图设计适用著作权法的规定，予以禁止，这本身就是造成一种事实上的思想垄断，这不仅违背著作权法的宗旨，对公众也是不公平的．所以各国都将此作为一种侵权的例外．除此之外各国法律还引人了专利法中权利用尽．善意侵权等限制性规定．
在权利产生方式上，各国均受美国的影响．尽管美国著作权法在1976年修改后已不再将登记作为著作权产生的前提，但在集成电路保护方面，仍沿用了原先的规定。只有履行了登记手续后才能享有布图设计专有权，并且布图设计标记将作为受法律保护的初步证据。
综上所述，虽然各国均采用专门立法保护集成电路，但从有关法律的具体规定来看，这实际上是一种以著作权法为基础，结合专利法有关规定的混合型法律。除集成电路以外，著作权理论在计算机软件保护领域中也发挥着重要作用。这种著作权与工业产权的融合，是技术发展和进步的必然。传统的知识产权法的分工正在被打破。我们相信，技术的革命将导致知识产权理论的更新。 出处:知识产权
